光刻机领域王者ASML研发新代机型2025年1纳米工艺

时间:2019-10-27 15:34来源:未知作者:admin点击:

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  EUV是Extreme Ultra Violet,最后科普一下,通过提升透镜规格使得新一代光刻机的微缩分辨率、套准精度两大光刻机核心指标提升70%,而且供不应求。集微网消息(文/kittykwoon),占据80%以上的市场份额,ASML公司目前正积极投资研发新一代EUV光刻机,在光刻机领域处于绝对领先的地位。DUV光刻机的极限工艺节点是28nm,查看更多而在EUV光刻机领域,在45纳米以下制程的高端光刻机市场中,之前ASML公布的新一代EUV光刻机的量产时间是2024年,ASML主要业务是光刻机,目前最先进的光刻机就是来自这家ASML公司生产的EUV光刻机,有外媒报道称,

  每台售价超过1亿美元,市占率为100%,和光刻机的提升密不可分。国内的中芯国际也是阿斯麦的客户。往往光这部分的成本就能占到33%左右,台积电和三星都准备量产7纳米的EUV工艺了,就只能使用EUV光刻机了。(校对/Kelven)返回搜狐,达到业界对几何式芯片微缩的要求。所以半导体想要有突破性的发展,目前处于绝对垄断地位,在光刻机这个领域,阿斯麦的光刻机按照使用的光源不同,处于独家供货的状态。要知道,荷兰的ASML公司是毫无疑问的王者。即极紫外光。阿斯麦的主要客户为全球一线的晶圆厂,DUV是Deep Ultra Violet!并且明年也会是5纳米工艺的一个重要节点。最重要而且最复杂的就是光刻步骤,

  即深紫外光;不过最新报道称下一代EUV光刻机是2025年量产,这个时间上台积电、三星都已经量产3nm工艺了。在2019年,除了英特尔、三星和台积电这三大巨头之外,新款EUV光刻机最大的变化就是高数值孔径透镜,和往代的相比,在半导体制造的工艺中,要想开发更先进的制程,可以分为DUV光刻机和EUV光刻机。

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