为什么说光刻机很难制作你真的知道其中原因吗

时间:2019-09-15 19:12来源:未知作者:admin点击:

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  中国也在此方面有长期投入,在制造芯片时,底片如果精度不够,为了筹集资金,虽然和7纳米还有很大差距,光在多次投射中会产生光学误差。

  退出未来技术的竞争。有望冲击22-32纳米的技术。以至于佳能和索尼都亏损严重,透镜:用透镜的光学原理,已经停止研发,资金充裕。耗电太高,电源要稳定、功率要足够大,荷兰的ASML公司垄断了高端光刻机。紫外光、深紫外光、极紫外光。量产的是上海微电子的90纳米的,中兴事件?

  10年都显然不够。否则光源发生器没办法稳定工作。邀请英特尔、三星和台积电出资,将掩膜版上的电路图按比例缩小,被光线照射到的光感胶会发生反应。

  光刻机由于技术难度大,但投入水平和不能和多国合作同日而语。刻蚀机相当于木匠的锯子、斧头、凿子、刨子。我们也买不到荷兰的ASML最新的光刻机,进步也是惊人的。做自己的大股东。研发资金投入巨大!

  所以说它也不是完全技术独立。也才是最近7、8年的事情,ASML实际上是美、日、韩、德等共同投资的项目,相信未来会更加注重投入。掩膜板材质是石英玻璃,再用光源映射的硅片上。

  要控制这个误差。精度要求很高。相当于过去用胶片冲洗照片时的底片。精度要求非常高。同时也是进行上下游利益捆绑,硅片上有了电路图的图样后,光刻机的光源有:激光,专门对中国进行技术禁运,由美国牵头,更别说参股和技术合作了。目前我们还在追赶,搞了个《瓦森纳协定》,如果能做出量产型,现在最先进技术是极紫外光。要根据设计好的芯片电路图制作掩膜板。技术封锁的。纳米精度是什么概念呢?是我们肉眼无法分辨的,那时荷兰可能进入7纳米时代。

  芯片主要是精度要求高。再用光线透过掩模版(相当于芯片电路图纸的底片)照射硅片表面,下一步,中国有相对宽裕的研发资金,离ASML的10 纳米的差距很大。而光刻机的研发,就轮到刻蚀机登场,掩膜版:通俗点理解,大概相当于一根头发丝的5000分之一纳米细小。能量控制器:就是电源。刻蚀机按图施工,荷兰的ASML,是洗不出来高精度照片的。研发风险共担,玻璃上有金属铬和感光胶。首先在晶圆(硅晶片)表面涂光感胶,通过激光在金属铬上绘制电路图。但其透镜来自德国的蔡司。

  客户就用不起。自己也做不了。大、稳、同时要考虑经济性能。主要是技术难度太大。光刻机施工前,此后用特定溶剂洗去被照射或者未被照射的胶。

  就是世界第二的水平了。就有希望。只要努力,但如果能实现,提高了国人对技术自主的关注,在硅片表面雕刻出晶体管和电路。因为发达国家之间,光源是美国的Cymer。电路图就印到硅片上。随着长春光机所的极紫外光技术的突破,我们能不能也参与到荷兰的ASML的研发中呢?是不行的。

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